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氮化硼(h-BN)是石墨的等電子體,具有與石墨類似的層狀結構,因其在600~1000℃下具有優異的抗氧化性而用作抗氧化劑。由BN與SiC的協同抗氧化作用而生成的B2O3-SiO2高硼硅玻璃態在材料表面形成抗氧化保護層,使得其抗氧化溫度區間可達到1200℃以上。
采用前驅體聚合物發泡技術制備高孔隙率、大孔徑的輕質SiC-BN復相泡沫陶瓷,其壓縮強度約為純SiC陶瓷泡沫的5~10倍;在800~1100℃的溫度區間內具有顯著的抗氧化性能,同時具有良好的高溫隔熱性能.其中以起始組分重量比為1:1的復合前驅體所制備的BN/SiC復相多孔陶瓷的熱導率在500℃時為1.5 W/(m·K);在1500℃時仍小于4.0 W/(m·K).