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氮化硼納米粒子有廣泛的潛在應用,如固體潤滑劑、熱導性良好的電子封裝材料、高效的催化劑載體材料等。制備氮化硼納米粒子的方法較多,采用的硼源原料也有多種,但以硼酸酯等作為硼源,以氨氣、氮氣作為氮源,采用化學氣相沉積法(CVD)制備六方氮化硼(h-BN)納米球體,是最可能實現生產規模的合成路徑。
當CVD反應溫度為950℃時,所得產物為規整的、表面光滑的球形形貌,其粒徑最小,約為60 nm左右,粒徑分布窄,高溫氨化處理后的最終產物沒有孿晶和團聚體,通過HRTEM檢測,發現其內部構造是由類似富勒烯結構的球面狀晶面疊加而成,層間距約為0.35 nm。CVD反應溫度低于或高于950℃,所得最終產物均有孿晶或團聚體出現,粒徑分布較寬。
隨著CVD反應溫度的提高,產物中硼氮元素的摩爾比接近1∶1,碳、氧等雜元素質量分數下降,但氧元素含量保持較高的水平,不低于5%,說明即使在高溫下氮化硼納米材料中的硼氧化合物穩定性較高。
無論CVD反應溫度高低,產物中的主要成分是h-BN,其含量隨溫度升高而增加,同時隨著溫度進一步升高,碳氧等雜原子的除去,原來內部構造的球形晶面趨向于變得平整,其形貌變為扁平乃至片狀。
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