[導(dǎo)讀]: 石墨烯的一系列獨特特性不斷被人們發(fā)現(xiàn),如極高的載流子遷移率——理論值達100萬平方厘米·伏^-1·秒^-1(cm^2·V^-1·s^-1)、反常量子霍爾效應(yīng)、室溫量子霍爾效應(yīng)、零質(zhì)量狄拉克費米子行為,以...
石墨烯的一系列獨特特性不斷被人們發(fā)現(xiàn),如極高的載流子遷移率——理論值達100萬平方厘米 · 伏 ^ -1 · 秒 ^ -1(cm ^ 2·V ^ -1·s ^ -1)、反常量子霍爾效應(yīng)、室溫量子霍爾效應(yīng)、零質(zhì)量狄拉克費米子行為,以及超高的機械強度和熱導(dǎo)率、優(yōu)異的透光性和導(dǎo)電性、超高的比表面積等。這些優(yōu)異的性能使得石墨烯在微電子、傳感器和生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景,因而石墨烯也被稱為“黑金”。
如今,石墨烯等二維材料與器件的研發(fā)競爭日趨激烈,國際半導(dǎo)體技術(shù)路線圖已經(jīng)將石墨烯等二維材料列為有望延續(xù)摩爾定律的新材料,廣泛應(yīng)用于高性能集成電路和新型納米電子器件中。未來,由二維晶體構(gòu)成的二維納米電子器件有望給微電子技術(shù)帶來突破性的變革,甚至有可能動搖占據(jù)集成電路主導(dǎo)地位半個世紀(jì)的硅基微電子器件的地位,并廣泛應(yīng)用于人們的日常生活中。
以石墨烯為代表的二維材料在替代傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料走向微電子領(lǐng)域、應(yīng)用于大規(guī)模集成電路制造的過程中充滿了機遇,同時也面臨著許多亟需解決的重大科學(xué)難題。例如石墨烯微電子器件的制備和應(yīng)用需要較高的載流子遷移率、合適的帶隙、較低的晶內(nèi)缺陷、平整的表面、較小的電荷雜質(zhì)濃度、均勻的介質(zhì)覆蓋等。
面對以上難題,六方氮化硼(h-BN)是目前最具潛力的一種石墨烯器件絕緣基底。六方氮化硼體材料與石墨是等電子體,具有與其相似的層狀結(jié)構(gòu),外觀色白,俗稱“白石墨”。其具有與石墨烯相同的層狀六邊形平面結(jié)構(gòu),具有原子級的平整表面,在面上沒有懸掛鍵,與石墨烯的晶格失配僅為1.8%,摻雜效應(yīng)弱,能夠最大限度地保持石墨烯的本征物理性質(zhì)。
有報道稱,將石墨烯轉(zhuǎn)移到六方氮化硼基底上后,測得的電子遷移率比在二氧化硅表面獲得的結(jié)果提高了一個數(shù)量級。但目前利用化學(xué)氣相沉積法制備的六方氮化硼薄膜大多為小晶疇組成的單層,大面積均勻多層氮化硼薄膜的制備技術(shù)仍然沒有取得突破。
本文來源氮化硼:http://clyfoex.com/Article/dhpybsmysm.html
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