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氮化硼材料主要通過熱壓燒結含有少量助溶劑的六方氮化硼粉末制得,生產效率較高,但是這種方法易于在燒結體中引入孔洞和雜質以及因熱壓產生的各向異性等問題,這使得其應用受到很大的限制,特別是在高溫及氧化環境中。利用化學氣相沉積法(CVD)并恰當地控制工藝參數就可以制備高純度、高致密度的熱解氮化硼(PBN)材料,利用這種方法制得的熱解氮化硼材料具有良好的可加工性能,能很好的滿足應用要求。
影響熱解氮化硼(PBN)制備的工藝參數非常多,主要有硼-氮源、溫度、壓力和反應器構造等四個方面。沉積氮化硼的原料反應氣主要分為兩大類:硼源+氮源+載氣/稀釋氣;含有硼和氮兩種元素的化合物+載氣/稀釋氣。
沉積氮化硼的溫度可以在很大范圍內變化(250℃-2300℃)。一般溫度越高,沉積出的氮化硼的結晶度越好。沉積氮化硼的壓力在1-760torr內變化。沉積基體可以是過度金屬、結構陶瓷、電子陶瓷、玻璃、石墨以及陶瓷顆粒等無孔基體。
熱解氮化硼材料具有優異的理化性能,化學氣相沉積法(CVD)是制備高純度致密氧化硼材料的良好選擇。制備得到的熱解氮化硼(PBN)的結構、形態及性能能強烈地依賴于工藝條件,利用化學氣相沉積法(CVD)所制備的氮化硼大多為薄膜、粉末等形態,而大尺寸塊體的氮化硼還僅限于各向異性度很高的熱解氮化硼,沒有充分發揮熱解氮化硼結構多樣性的特點,限制了該材料在更廣闊的領域得到應用。所以,對力學性能優異的各向同性熱解氮化硼的研究相對比較少,鑒于熱解氮化硼的廣闊應用,熱解氮化硼材料的制備工藝研究還有待深入,尤其是沉積機制的研究,為可控制備熱解氮化硼提供堅實的基礎。